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研究開発推進機構の川口健次助教が表面技術協会第134回講演大会において第18回優秀講演賞を受賞

関連カテゴリー : 研究・産官学連携
'17年3月17日 更新
2016年9月1~2日に開催された表面技術協会第134回講演大会において、研究開発推進機構の川口健次助教が第18回優秀講演賞を受賞しました。
川口助教は、ナノサイズのIrO2粒子がアモルファスのTa2O5マトリックス中に高分散した『ナノ/アモルファスハイブリッド触媒』を作製して酸性水溶液中におけるアノード反応である酸素発生(主反応)とPbO2電着(副反応)に対する反応過電圧を独立に制御することに成功し、その研究内容が高く評価されました。
なお、2017年3月9~10日に開催された表面技術協会第135回講演大会において表彰式が行われました。

発表題目
ナノ/アモルファスハイブリッド触媒における反応過電圧・結晶化過電圧と反応選択性
発表者
川口健次 (研究開発推進機構 特定任用研究員 助教)
連名者
盛満正嗣 (理工学部 教授)


表面技術協会第134回講演大会

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